Pembersihan Dan Penyelenggaraan; Penapis; Unit Utama - Sharp IG-DC2E Operation Manual

PEMBERSIHAN DAN PENYELENGGARAAN

Penapis mestilah kerap dicuci untuk mengekalkan berkepadatan ion.
Kotoran penapis bergantung pada persekitaran penggunaan, jadi bersihkan
penapis sekerap yang boleh. Ion plasmacluster boleh dilepaskan dengan
efi sien melalui pencucian yang kerap.
Keluarkan habuk dari
penapis di bahagian
belakang dgn cermat
dengan menggunakan
pembersih vakum.
• Jangan menekan pembersih vakum pada penapis dengan kuat, atau penapis
mungkin akan rosak.
• Jika menggunakan bahan pencuci sintetik dapur, bilas dengan sempurna untuk
menghilangkan kesan-kesan bahan pencuci. Juga, pastikan penapis dikeringkan di
tempat teduh.
• Keringkan produk di kawasan teduh supaya titisan air tidak kekal dalam jurang
antara penutup penapis dan penapis.

UNIT UTAMA

Lap dengan kain lembut yang kering.
<Untuk Kekotoran Degil>
IG-DC2E.MA.indd 10 IG-DC2E.MA.indd 10

PENAPIS

Sekerap yang boleh
<Untuk Kekotoran Degil>
• Tangalkankan dan bilas dalam air.
Penapis
Setiap bulan atau lebih kerap jika perlu
(Guna span lembut jika kekotoran susah dibersihkan)
Berhati-hati agar bahan kusyen tidak tercabut.
Bilas Lap dengan kain kering.
(Keringkan di tempat teduh.)
t>
Guna air dan bahan pencuci yang lembut. Dan
kemudian, lap dengan kain basah. Pastikan unit utama
dikeringkan.Every
M-8
Pasang semula
2012/04/05 12:39:18 2012/04/05 12:39:18